光电子先导院7款最新成果亮相2025中国光博会

资讯 » 新科技 2025-09-10

9月10日,为期3天的第26届中国国际光电博览会(CIOE中国光博会)与SEMI-e深圳国际半导体展暨2025集成电路产业创新展(SEMI-e),在深圳国际会展中心举行。此次双展以超30万平方米的展示规模、汇聚5000余家参展企业,树立起“光电子+半导体”产业协同发展的全新标杆,为全球科技产业突破技术壁垒、激活创新动能注入强劲动能。



光电子先导院展区

在展会上,陕西光电子先导院科技有限公司(简称“光电子先导院”)携六吋车规级VCSEL阵列晶圆 、六吋球面硅透镜晶圆,六吋非球硅透镜晶圆、八吋无源SOI集成氮化硅晶圆等7款最新成果亮相,重点展示化合物平台和硅光平台的技术突破与创新成果,吸引了诸多参观者的目光,行业人士共聚展台交流探讨。



陕西光电子先导院展示7款最新成果

据了解,光电子先导院在国内率先提出“1+N”柔性平台模式,以6英寸化合物半导体芯片、8英寸硅光芯片为双主平台,同步配套磷化铟探测器、砷化镓射频器件等多个特色工艺平台,已拥有先进光电芯片关键核心设备200余台(套),并组建了200余人的技术和运营管理团队,形成覆盖核心制程与细分场景的柔性化中试能力。

光电子先导院总经理杨军红介绍称:“6英寸化合物光电芯片工艺平台自2023年通线以来,已发布了20余款PDK,建立了GaAs单结单孔&阵列VCSEL、GaAs多结阵列VCSEL、GaAs 1D/2D可寻址VCSEL、硅透镜、GaAs集成无源器件5个类别的工艺中试能力,涵盖消费电子、工业、车载等多种应用场景,目前已为50余家客户提供了研发、中试、检测等全流程技术服务。”

“8英寸硅光平台于2023年底启动建设,目前已完成全部场地及硬件设施建设。平台引进了比利时IMEC‘130nm硅光芯片工艺包’,并引入了DUV光刻机、PECVD、FIB等60余台关键设备。目前正在全力推进工艺调试及工艺开发,已开发完成基于i-line的硅光无源SOI集成LPSIN。预计将于2026年完成基于ArF90nm工艺节点的有源硅光SOI集成SIN工艺,包含高性能端面,调制器,探测器等核心器件,可应用于光通信,激光雷达,光陀螺,生物医药等领域,可为国内光子产业各类创新主体提供多种类型光电、硅光芯片的研发和中试服务。”杨军红表示。

光电子先导院系西安中科光机投资控股有限公司(简称“西科控股”)的控股子公司。作为陕西省光子产业共性技术研发平台和陕西省光子产业链“链主”单位,以及入选《首批工业和信息化部重点培育中试平台初步名单》的“光子集成产业中试平台”,光电子先导院始终致力于解决光子企业和科研院所项目在初始阶段“建不起产线、产品无法验证、产能无话语权、市场风险高”四大痛点。历经10年磨剑,光电子先导院至今已为百余家初创企业“点亮”前行之光,助推多项科技成果及产品实现进口替代。

杨军红表示,为持续助推光子产业发展,公司已于今年启动异质异构集成工艺平台规划建设,该平台聚焦多材料(硅+化合物)异质集成技术和光电共封异构集成技术,应用于下一代AI数据中心高速通讯、高速光计算领域,寻求算力、带宽、功耗与成本的最优解,引领和支撑新一轮信息革命浪潮。



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